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证券时报e公司讯，据“中国光谷”公众号音问，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域完结紧要冲破：武汉太紫微光电科技有限公司（简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶居品，已通过半导体工艺量产考据，完结配方全自主野心，有望草创国内半导体光刻制造新局面。该居品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的海外同系列居品UV1610，T150 A在光刻工艺中进展出的极限分别率达到120nm，且工艺宽宏度更大，默契性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺进展更为友好探花 在线，通过考据发现T150 A中密集图形过程刻蚀，基层介质的侧壁垂直度进展优异。太紫微公司开采于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国度揣摸中心团队创立。

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