证券时报e公司讯，据“中国光谷”公众号音问，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域完结紧要冲破：武汉太紫微光电科技有限公司（简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶居品，已通过半导体工艺量产考据，完结配方全自主野心，有望草创国内半导体光刻制造新局面。该居品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的海外同系列居品UV1610，T150 A在光刻工艺中进展出的极限分别率达到120nm，且工艺宽宏度更大，默契性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺进展更为友好探花 在线

（温晓镭 xiaolwen@ustc.edu.cn欧美无码 2018.11） 1. 概括 光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask/Reticle），简称掩膜版，是微纳加工时期常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息革新到居品基片上。 图1 掩膜版涌现图 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层组成。其图形结构可通过制版工艺加工得回，常用加工开拓为直写式光刻开拓，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。 掩膜版行使终点时时，在波及光刻